鋁陽極氧化廠家帶您了解：

鋁是一種相對活躍的金屬。標(biāo)準(zhǔn)電位-1.66V。一層厚度約為0.01~0.1微米的氧化膜可以在空氣中自然形成。這種氧化膜是非晶態(tài)的，薄而多孔，耐腐蝕性差。然而，如果鋁及其合金被放置在適當(dāng)?shù)碾娊庖褐?，以鋁產(chǎn)品為陽極，它的表面通過外部電流產(chǎn)生氧化膜，這種方法被稱為陽極氧化。

通過選擇不同類型、不同濃度的電解質(zhì)，以及控制氧化的過程條件，可以獲得具有不同性、厚度約幾十到幾百微米的陽極氧化膜，其耐腐蝕性、耐磨性和裝飾性都得到了顯著的改善和改善。用于鋁和鋁合金陽極氧化的電解質(zhì)通常是一種具有中等溶解能力的酸性溶液。鉛或鋁作為陰極，只起導(dǎo)電作用。當(dāng)鋁及其合金被陽極氧化時，以下反應(yīng)發(fā)生在陽極：

2Al->6e+2Al3+。

以下反應(yīng)發(fā)生在陰極：

6+6e-6H2+6OH-

同時，酸對鋁和產(chǎn)生的氧化膜進行化學(xué)溶解，其反應(yīng)如下：

2Al+6H+>2Al3+3+3H2。

Al2O3+6H+>2Al3+3+3H2O。

氧化膜的生長過程是氧化膜不斷生成和溶解的過程。

一部分a（曲線ab部分）：形成無孔層。在電源開始的幾秒鐘到幾十秒鐘內(nèi)，鋁的表面立即產(chǎn)生了一層致密的、高絕緣性能的氧化膜，厚度約為0.01~0.1微米。它是一個連續(xù)的、無孔的薄膜層，被稱為無孔層或隔層。這種薄膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和薄膜層的持續(xù)增厚。無孔層的厚度與電壓的形成成正比，與電解液中氧化膜的溶解速度成反比。因此，曲線ab部分的電壓從零急劇增加到最值。

二段B（曲線BC部分）：形成多孔層。隨著氧化膜的形成，電解液對膜的溶解開始。由于產(chǎn)生的氧化膜不均勻，電解液可以通過這些孔繼續(xù)到達鋁的新表面，電化學(xué)反應(yīng)可以繼續(xù)，電阻降低，電壓降低（降低范圍為10~15%，最值為10~15%）。

第三部分c(曲線cd部分):多孔層增厚。陽極氧化約20秒后，電壓進入一個相對平穩(wěn)緩慢的上升階段。這表明，雖然無孔層不斷溶解形成多孔層，但新的無孔層正在生長，也就是說，無孔層在氧化膜中的生成速度和溶解速度基本達到平衡，因此無孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。然而，在這個時候，氧化膜的形成和溶解在孔的底部并沒有停止，它們?nèi)栽谶M行中，因此孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動。隨著氧化時間的延長，孔加深形成孔隙，孔隙層逐漸加厚。當(dāng)膜的生成速度和溶解速度達到動態(tài)平衡時，即使氧化膜的厚度再次延長~20，也不會再次增加。此時，陽極氧化過程應(yīng)化過程應(yīng)該停止。陽極氧化特性曲線和氧化膜的生長過程如下圖所示。通過鋁及其交流電解液對于鋁的陽極氧化物進行直流和氧化處理，可以獲得5個~20個微米的厚度，這樣可以吸收更好的透明度，吸收更好的透明度。

硫酸陽極氧化在中國得到了廣泛的應(yīng)用，因為它工藝簡單，溶液穩(wěn)定，操作方便，允許雜質(zhì)含量廣，耗電少，成本低。